產(chǎn)品名稱：鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產(chǎn)品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶材質(zhì)國(guó)內(nèi)牌號(hào)：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...

1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，電子派射耙材可以分為半導(dǎo)體靶材、平面靶材、鍍...

濺射靶材是指通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...

一、產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦靶牌號(hào)：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 廠家：巨偉鈦業(yè)主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質(zhì)含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)密度：4.51或4.50圓靶...

鉬屬于難熔金屬，體心立方結(jié)構(gòu)，具有導(dǎo)電導(dǎo)熱性好、熱膨脹系數(shù)低、耐腐蝕性好及環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn)，鉬薄膜的比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的一半，因此，由鉬及鉬合金制備的濺射靶材已廣泛應(yīng)用于...

目前，我國(guó)已發(fā)展成世界鈦工業(yè)大國(guó)，鈦產(chǎn)能與產(chǎn)量均位居世界首位，然而國(guó)內(nèi)鈦材的整體技術(shù)含量較低、產(chǎn)品附加值低、產(chǎn)能嚴(yán)重過(guò)剩，鈦工業(yè)面臨"大而不強(qiáng)"的處境，加大鈦材深加工及開發(fā)...

濺射工藝屬于物理氣相沉積技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。在電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過(guò)程中，金屬薄膜的制備十分重要。濺射工藝?yán)秒x子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚...

前言磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場(chǎng)加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來(lái)后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來(lái)制備薄膜材料的一種主要方法[1]。它的基本原...

一、產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦靶牌號(hào)：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 廠家：巨偉鈦業(yè)主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質(zhì)含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)密度：4.51或4.50圓靶...

產(chǎn)品名稱：鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產(chǎn)品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶材質(zhì)國(guó)內(nèi)牌號(hào)：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...

電子工業(yè)經(jīng)歷了由電子管、半導(dǎo)體集成電路及超大規(guī)模集成電路的發(fā)展歷程，對(duì)人類社會(huì)的各個(gè)方面帶來(lái)革命性的沖擊。在集成電路的制程中，各類元件如二極管、三極管、電阻器及電容...

磁控濺射是制備薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)，而鈦靶材是這項(xiàng)技術(shù)中需要使用的鍍膜材料?，F(xiàn)在很多行業(yè)，如集成電路，裝飾鍍膜行業(yè)、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術(shù)，這些行業(yè)對(duì)于產(chǎn)品的質(zhì)...

p>1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種， 是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，電子派射耙材可以分為半導(dǎo)體靶材、平面靶材...

目前，我國(guó)已發(fā)展成世界鈦工業(yè)大國(guó)，鈦產(chǎn)能與產(chǎn)量均位居世界首位，然而國(guó)內(nèi)鈦材的整體技術(shù)含量較低、產(chǎn)品附加值低、產(chǎn)能嚴(yán)重過(guò)剩，鈦工業(yè)面臨"大而不強(qiáng)"的處境，加大鈦材深加工及開發(fā)...

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉(zhuǎn)靶管牌號(hào)：N6、N4用途：鎳靶用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等行業(yè)。...

引言 磁控濺射技術(shù)利用電子源產(chǎn)生 電子，其在真空 中通過(guò)加速聚焦形成高速能量粒子束轟擊固體表面(靶材)，被激發(fā) 出來(lái)的原子沉積在基底表 面形成覆膜 。該技術(shù)具有成膜致密度高...

近年來(lái)，隨著全球經(jīng)濟(jì)技術(shù)的高速發(fā)展，產(chǎn)品的多功能化和輕便化的不斷推進(jìn)，使得薄膜科學(xué)的應(yīng)用日益廣泛。而濺射靶材作為鍛膜產(chǎn)業(yè)的基本耗材， 其制備技術(shù)也得到了長(zhǎng)足發(fā)展 。濺射薄...

產(chǎn)品名稱：高純度旋轉(zhuǎn)鉻靶材 真空濺射鉻靶材產(chǎn) 地：陜西寶雞材 質(zhì)：Cr純 度：99.99%晶 粒 度：<100um規(guī)格：可以按照用戶需要定制。應(yīng)用領(lǐng)域：鉻靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,L...

1842年格波夫在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象，由于人們對(duì)濺射機(jī)理缺乏深入了解和濺射薄膜技術(shù)發(fā)展緩慢，商業(yè)化的磁控濺射設(shè)備直到1970年才逐漸應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室和小型生產(chǎn)。自20世紀(jì)...

前 言 磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場(chǎng)加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來(lái)后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來(lái)制備薄膜 材料的一種主要方法[1]。它的基本...